某半导体行业IC芯片制造厂在晶圆制造整个过程中，在使用硅烷来进行硅外延性冒出，废气排放洗洁塔生成高含量的含硅废污水。废污水体现了pH上下波动大（2-11）、硅含量的高的特别，传统与现代治疗措施易冒出硅垢网络堵塞，网络响应过慢或许卡死大问题。 污水材料及原因 废液核心因素为： 熔化分解性硅酸盐 ：SiO₂溶度达1000-1500mg/L 硫酸钠/氢防氧化钠 ：洗滌剂塔酸性洗滌剂液留下 颗粒肥料硅 ：奈米级SiO₂胶体溶液 痕量砷 ：辅料硫氰酸盐进入 加工处理的工艺方案 自主创新主要包括"两极采和+膜油烟净化器+挥发心得"技术： 第一与 ：用CaO调接pH至4-5，添加硅酸钙发展，硅彻底清除率60%。 两级与 ：加Na₂CO₃将pH不断提升至9，进第一步滤渣所剩硅，并接用镁剂除砷。 超滤膜软件 ：0.02μm淘瓷膜过虑nm级硅粒状，通量稳定性高在80LMH。 MVR蒸馏器 ：浸提高盐生活污水，晶体出Na₂SO₄副物品，水循环率超90%。 后面郊果 总硅从1500mg/L降落到5mg/L这 砷占比从0.8mg/L下降0.01mg/L 操作系统无积灰正常运行达到2年 第年再利用浓盐酸钠单晶体约800吨