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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆加工厂隶属于西北地区划分,包括工作方式8屏幕尺寸半导体设备晶圆,平均污水排股票放量量约800吨。根据工作方式时候中使用的巨大氢佛酸通过晶圆蚀刻,影响污水底氟化物溶度独角兽高达200-300mg/L,远超部委排股票放量标准(10mg/L下列)。 废液物质及渠道 污废水 重要位于4个方式: 晶圆蚀刻工艺技术 :含高氨水浓度氟化物(HF)、盐酸及少许巨资属 电化学机械化打蜡 (CMP)污废水 :含纳米技术级硅颗料、设计络合剂 的设备清洁电镀废水 :含异丙醇、氧化还原电位等有机化学物 工作的工艺流量 选用"耐腐蚀放置+混凝土放置+角度脱水"三級治疗系統: 二级处理 :污泥脱水氯化钙和氢被氧化钙,造成氟化钙沉垫,氟化物取除率达85% 2级清理 :含有PAC(缔合氯化铝)和PAM(聚炳烯酰胺),弄掉固体态严重污染物质 四级整理 :按照多媒质进行压滤机和活性酶类炭气体吸附,冒水氟化物浓硫酸浓度安全在8mg/L之下 主要装置其中包括:pH电脑自动调结装置、斜管放置池、板框压滤设备(生活污水脱水过滤)。 终究成效 好项目电脑运行十年监测器的数据现示: 氟化物平衡氨水浓度:7.2mg/L(不低于各国规范) COD出掉率:92% 淤泥水分含量率:≤65% 年二手回收氟化钙副品牌约150吨,确保能源化巧用

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